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机译:等离子体聚合a-C:H薄膜的介电阻挡放电光谱研究
Thejaswini Halethimmanahally Chandrashekaraiah; Robert Bogdanowicz; Eckart Rühl; Vladimir Danilov; Jürgen Meichsner; Steffen Thierbach; Rainer Hippler;
机译:介电势垒放电沉积的等离子体聚合a-C:H薄膜的光谱研究
机译:CH4 / Ar介质阻挡放电等离子体的a-C:H膜的性质和沉积过程
机译:通过大气压介质屏障排放沉积的等离子体聚合物的分子结构的见解
机译:大气压等离子体CVD工艺的设计,该工艺使用介电势垒放电沉积氮化硅薄膜。
机译:在大气压下通过介质阻挡放电沉积超疏水a-C:F薄膜
机译:等离子在塑料膜上沉积涂层以形成覆盖的塑料膜,包括在硅前体的存在下将衬底表面暴露于介电势垒控制的放电中,以及在衬底上形成涂层
机译:用介电势垒放电涂覆衬底表面的设备,在无机衬底上沉积膜的方法以及用介电势垒放电涂覆衬底表面的设备的用途
机译:通过介电势垒放电沉积金刚石膜的方法
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